磁控濺射系統(tǒng)

濺射氣體：Ar，O2，N2

樣品臺尺寸：4",6",8",12"

控制方式：自動或手動

樣品倉尺寸：10",13",14"(可定制)

靶材尺寸：1"-6"

靶材材質：Au，Cu，Al，Ti，Ni等金屬，SiO2等介質

儀器種類：進口離子濺射儀

儀器簡介：可構建成多腔體和多蒸發(fā)源的裝備，在介質上濺射金屬和介質資料，最大可支撐200mm的襯底。體系能夠裝備DC直流、RF射頻和Pulse DC脈沖直流等電源來進行序列濺射或共濺射。體系使用渦輪分子泵組，工藝腔極限真空可達5 x 10-7Torr。能夠經過調理靶基距，實現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調理。旋轉樣品臺可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。主動膜厚監(jiān)控儀可提供以膜厚為工藝終點條件的全自動工藝操控，達到膜厚時體系將主動停止工藝。樣品臺最高可加熱到800度，并可提供射頻偏壓。

檢測資質（部分）

檢測報告作用

1.提供產品進出口服務、市場營銷、產品質量認證等。

2.用來證明產品質量，展示公司信譽。

3.為相關研究論文提供科學可靠的科研數(shù)據(jù)。

4.找出產品存在的問題，對產品進行內部控制，提高產品質量，降低產品成本。

5.可提供給商品銷售使用，入駐大型超市和各大網絡電商平臺。

6.協(xié)助政府單位進行工商質量檢查和市場監(jiān)管。

7.可用于政府部門和事業(yè)單位機構的招標和投標。

檢測實驗室（部分）

合作客戶（部分）

檢測流程

以上為磁控濺射系統(tǒng)的檢測服務介紹,如有其他疑問可 聯(lián)系在線工程師！